فلورية الأشعة السينية (يرمز لها XRF من X-ray fluorescence) هي إصدار تلقائي ومميّز للأشعة السينية الثانوية (أو الفلورية) من المادة، وذلك عند تعريضها لمصدر مرتفع الطاقة يؤدي إلى التهييج أو الإثارة، مثل أشعة سينية مرتفعة الطاقة، أو أشعة غاما.[1][2][3]
تستخدم هذه التقنية التحليلية من أجل تحليل العناصر بشكل خاص أو في المجالات المختلفة في التحليل الكيميائي مثل تحليل الفلزات ومواد البناء، أو في مجالات الجيوكيمياء وعلم الأدلة الجنائية وعلم الآثار.
المبدأ
عند خضوع المادة إلى الأشعة مرتفعة الطاقة ذات الأطوال الموجية القصيرة، تتعرض الإلكترونات الداخلية للتهيج، وتقفز إلى المدارات الخارجية بعد التغلب على الحاجز الطاقي الذي يربطها بالنواة. نتيجة لذلك يصبح التشكيل الإلكتروني لذرات المادة غير مستقراً، بحيث تقوم إلكترونات الغلاف الخارجي بتغطية النقص والعودة إلى المدارات الداخلية لملء المكان الشاغر، وتصدر بذلك إشعاعاً مميزاً للعنصر المكون للمادة.
تمثيل للمبدأ الفيزيائي لفلورية الأشعة السينية
الانتقالات الإلكترونية في ذرة الكالسيوم.
طيف نمطي لتوزع الطاقة في فلورية الأشعة السينية
اقرأ أيضاً
مراجع
- David Bernard Williams; C. Barry Carter (1996). Transmission electron microscopy: a textbook for materials science. 2. Springer. صفحة 559. . مؤرشف من الأصل في 15 ديسمبر 2019.
- L. Vincze (2005). "Confocal X-ray Fluorescence Imaging and XRF Tomography for Three-Dimensional Trace Element Microanalysis". Microscopy and Microanalysis. 11: 682. doi:10.1017/S1431927605503167. مؤرشف من الأصل في 11 ديسمبر 2019.
- Multilayers quantitative X-ray fluorescence analysis applied to easel paintings, Anal Bioanal Chem. 2009 Dec; 395(7): 2015-20. doi:10.1007/s00216-009-2997-0 - تصفح: نسخة محفوظة 23 ديسمبر 2015 على موقع واي باك مشين.